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廣電計(jì)量檢測集團(tuán)股份有限公司

真空式等離子處理系統(tǒng) CRF-VPO-MC-6L

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市誠峰智造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CRF-VPO-MC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2022/8/15 15:25:57
  • 訪問次數(shù)246
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深圳市誠峰智造有限公司(phone:13632675935  http://www.sfi-crf.com)是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的*。中國香港、中國臺(tái)灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設(shè)立八大銷售及客戶中心,銷售及客戶網(wǎng)絡(luò)遍布,擁有國內(nèi)外銷售及客服團(tuán)隊(duì)。源于美國&德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù),公司全資擁有CRF品牌下等離子設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn),制造技術(shù),設(shè)備范圍涵蓋半導(dǎo)體,光伏光電,太陽能,PCB&FPCB等行業(yè)。

等離子清洗機(jī),等離子表面處理機(jī),電漿機(jī),plasma設(shè)備,等離子設(shè)備
產(chǎn)品特點(diǎn)●超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;●可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;●高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持
真空式等離子處理系統(tǒng) CRF-VPO-MC-6L 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;
● 可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
● 高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
 

應(yīng)用范圍

真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

 

真空等離子處理設(shè)備又被稱為等離子表面處理器、等離子處理機(jī),普遍用以精密的機(jī)器設(shè)備、印染、粉體材料、汽車工業(yè)、航天航空、污染治理等*行業(yè)的活性、改性。等離子體清洗技術(shù)的是低溫等離子體的運(yùn)用,它是屬于干式環(huán)保的處理設(shè)備。等離子體清洗機(jī)主要是依靠高溫、高頻率、高能等外界條件。


真空等離子處理設(shè)備的等離子處理是一個(gè)干躁的過程。運(yùn)用電能催化反應(yīng),可提供低溫工作環(huán)境,避免使用危險(xiǎn)的濕式化學(xué)清洗物質(zhì)。它是屬于安全、靠譜、環(huán)保的,簡易地說等離子體清洗技術(shù)融合了等離子體物理、化學(xué)和固態(tài)表面反應(yīng),能合理有效地消除材料表層的殘留污染物,確保材料表層和本身特性不受影響。


真空等離子處理設(shè)備的等離子清理技術(shù)對(duì)半導(dǎo)體材料、金屬材料及高分子大部分纖維材料具備優(yōu)良的處理效果,不管待處理的材料形狀如何,均可完成整體、的局部及繁雜構(gòu)造的清洗。該加工工藝便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化和智能化,并裝有高精密的操縱設(shè)備,能準(zhǔn)確控制時(shí)間,記憶點(diǎn)等作用。由于其實(shí)際操作簡易、高精度、可操控性好環(huán)保等優(yōu)勢,等離子體清洗技術(shù)的材料表層改性、活化蝕刻等功能在眾多行業(yè)獲得了好評(píng)。使用等離子清洗機(jī)清洗后,材料表層沒有殘余,根據(jù)挑選和配對(duì)不一樣的等離子清洗方法,能夠做到不一樣清洗效果,可以滿足后續(xù)制作工藝對(duì)材料加工的各種各樣要求。因?yàn)榈入x子體的專一性不強(qiáng),對(duì)具備繁雜構(gòu)造的物件如凹陷、孔眼、皺褶等處理也能適應(yīng)。

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名稱(Name)

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)(Model)

CRF-VPO-MC -6L

控制系統(tǒng)(Control system)

PLC+觸摸屏

電源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz, 3kw

射頻電源功率(RF Power)

2000W/40kHz

容量(Volume )

235L(Option)

層數(shù)(Electrode of plies )

6(Option)

有效處理面積(Area)

500(L)*500(W)(Option)

氣體通道(Gas)

兩路工作氣體可選:Ar、N2、H2、CF4、O2

外形(Appearance )

鈑金結(jié)構(gòu)

 

關(guān)鍵詞:等離子清洗機(jī)
15168338725
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