電子超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))
雙級反滲透設(shè)備工業(yè)超純水設(shè)備電子芯片用水
反滲透純水設(shè)備采用的主要是反滲透技術(shù)，用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。一般可以將水的純化過程大致分為4大部，預(yù)處理（初級凈化）、反滲透（生產(chǎn)出純水）、離子交換和終端處理（生產(chǎn)出符合特殊要求的超純水）。
雙級反滲透設(shè)備工業(yè)超純水設(shè)備電子芯片用水
電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。
edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm
PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
溫度：5-35℃
進水壓力： 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)
EDI超純水設(shè)備特點
1、PLC全自動控制，無需人工值守，節(jié)省人力成本
2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，且不會因為再生而停機
3、設(shè)備出水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，能耗低，水利用率高，運行費用及維修成本低
4、關(guān)機時膜保護系統(tǒng)可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用年限
5、結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，大大節(jié)省了基建投資
工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI超純水系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
