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GV10x順流等離子清洗器

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公司名稱天津奧辛博科技有限責(zé)任公司
品牌
型號(hào)
所在地天津市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2025/1/26 8:30:46
訪問(wèn)次數(shù)223

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

天津奧辛博科技有限責(zé)任公司是豪森國(guó)際（香港）有限公司在中國(guó)大陸的分支機(jī)構(gòu)，注冊(cè)于渤海之濱的天津*產(chǎn)業(yè)園區(qū)，為廣大的中國(guó)用戶提供全套的實(shí)驗(yàn)室裝備和技術(shù)解決方案。公司銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全國(guó)并已經(jīng)在上海、廣州和重慶設(shè)立分公司，為用戶提供售前咨詢、進(jìn)口代理、售后應(yīng)用支持和維修等全方面立體式服務(wù)。自2002年成立以來(lái)已同多個(gè)儀器廠商建立了良好的戰(zhàn)略合作關(guān)系，如美國(guó)Keysight公司、美國(guó)KLA-Tencor公司、法國(guó)Formulaction公司、美國(guó)BI公司、美國(guó)IBSS Group公司、美國(guó)BeckmanCoulter公司、美國(guó)TA公司、英國(guó)Renishaw公司、美國(guó)Thermofisher公司、美國(guó)PE公司、新加坡BioPSI公司等。近幾年，分子生物物理研究的迅速發(fā)展，前沿的科學(xué)技術(shù)已經(jīng)為在分子水平上了解一些重要生命現(xiàn)象的本質(zhì)和機(jī)理提供可能，這一影響力已迅速擴(kuò)展到分子生物學(xué)、免疫學(xué)、藥物學(xué)、合成化學(xué)、理論化學(xué)、蛋白質(zhì)工程學(xué)等各方面，公司重點(diǎn)轉(zhuǎn)移至納米材料科學(xué)和生物分子學(xué)兩大領(lǐng)域的專業(yè)儀器的引進(jìn),并簽約代理美國(guó)Keysight公司、美國(guó)BI公司、新加坡BioPSI公司的產(chǎn)品，成為單分子生物物理領(lǐng)域國(guó)內(nèi)能提供全面檢測(cè)手段的代理商。公司強(qiáng)大的技術(shù)團(tuán)隊(duì)充分保障了公司的技術(shù)能力和服務(wù)標(biāo)準(zhǔn)在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中始終處于地位。我們堅(jiān)信用戶滿意和支持是公司發(fā)展的生命線。公司以誠(chéng)信的經(jīng)營(yíng)之道贏得客戶的信任，以過(guò)硬的技術(shù)水平贏得客戶的尊重和認(rèn)可，在業(yè)內(nèi)具有深遠(yuǎn)的影響力，已成為大型科研儀器進(jìn)口商的*。

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隨著納米科學(xué)的發(fā)展，電子探針?lè)治鲎兊迷絹?lái)越具有挑戰(zhàn)性：電子束能量降低，反應(yīng)氣體使用的增加，保持高分辨率越來(lái)越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平

GV10x順流等離子清洗器產(chǎn)品信息

隨著納米科學(xué)的發(fā)展，電子探針?lè)治鲎兊迷絹?lái)越具有挑戰(zhàn)性：電子束能量降低，反應(yīng)氣體使用的增加，保持高分辨率越來(lái)越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平。順流等離子工藝可以快速、方便地消除碳?xì)浠衔锏奈廴静⑦M(jìn)行樣品清洗。與傳統(tǒng)的“等離子清洗器”中的動(dòng)能清洗不同，順流等離子清洗過(guò)程是一個(gè)溫和的化學(xué)過(guò)程（無(wú)動(dòng)力沖擊）。這一過(guò)程地改變了清除真空腔中碳和碳?xì)浠廴镜姆椒ā?br style="box-sizing:border-box;">
該工藝可高效地清潔大容積腔室和嚴(yán)重污染的表面。 GV10x 等離子清洗器只需1/10的時(shí)間即可清潔鏡腔，因?yàn)樗鼤?huì)使空氣產(chǎn)生更高濃度的氫離子和氧離子，從而達(dá)到去污目的，其效果更為溫和。. 客戶說(shuō)“……使用GV10x，我們可以在1/10的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效的清潔，比起傳統(tǒng)方式，我們可在大面積鏡腔里更均勻地控制碳?xì)浠衔锏奈廴??！?

與使用冷凝捕集器、氮?dú)獯祲m和其他等離子清潔器去污染的傳統(tǒng)方法相比，GV10x等離子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。 GV10x具有更大的功率和壓力范圍（5到100瓦，2到<0.005 Torr），代表了SEM和其他分析儀器（包括Mas-Spec、XPS等）中碳和碳?xì)浠衔锟刂七_(dá)到了典范式的轉(zhuǎn)變。
原子氧和氫將表面碳轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子，不再像傳統(tǒng)的方式那樣只將其固化或吸附，而是將氣態(tài)分子從鏡腔中抽出，從而達(dá)到去污效果。聚合沉積物等人工樣品可在>5分鐘的循環(huán)中被掃除掉。由于不頻繁的清洗周期，QWK™的配置結(jié)構(gòu)允許GV10x 等離子清洗器可以在多個(gè)EM工具中保持較低的HC水平。

集團(tuán)提供了可驅(qū)動(dòng)和操作GV10x等離子體源的控制器。實(shí)驗(yàn)室用戶可依需求選擇BT控制器或2U控制器。

從Windows軟件或觸摸屏，操作員可以：在運(yùn)行期間進(jìn)行設(shè)置和監(jiān)控，可將功率從10瓦更改為99瓦。從等離子源調(diào)整進(jìn)氣量可選擇2 Torr <<5 mTorr的壓力范圍。GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴?，而無(wú)需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。 GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴荆鵁o(wú)需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。