該系統(tǒng)是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究。通過滑動爐子可以實現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻。
應(yīng)用范圍：
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 1200℃雙管滑道式CVD系統(tǒng) |
| 部分： 1200度滑道雙管雙溫區(qū)管式爐 | |
| 產(chǎn)品型號 | 1200度滑道管式爐 |
| 爐管尺寸 | 雙石英管 外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm 內(nèi)管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm |
| 加熱區(qū) | 220+220mm |
| 供電電源 | 230V，單相，50HZ |
| 功率 | 4.0 kw |
| 加熱元件 | 電阻絲 |
| 升溫速率 | 0-20°C/min |
| 熱電偶 | K型 |
| 第二部分： 水冷系統(tǒng) | |
| 法蘭 | 1.水冷機 CW-3000 2.水冷，密封雙管的真空法蘭：允許反應(yīng)氣體通過兩管之間（10mm間隙）發(fā)生反應(yīng)，冷卻氣體直接通入內(nèi)管. |
| 第三部分 真空系統(tǒng) | |
| 真空系統(tǒng) | 1. 防腐數(shù)顯真空計 2. VRD-16旋片泵，抽速4L/S,含擋板閥 KF25接口，波紋管和箱體 |
| 第四部分 混氣系統(tǒng) | |
| 質(zhì)量流量計 量程： MFC 1: 0~10 sccm MFC 2: 0~200 sccm MFC 3: 0~10 slm MFC 3: 0~10 slm ....... | |
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