實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱的重要作用
晶片產(chǎn)品的表面通常是親水的,因為從環(huán)境濕度中吸附了一層水。為了使光刻膠具有適當(dāng)?shù)母街?,需要使表面更具疏水性,以更好地與光刻膠的化學(xué)性質(zhì)相匹配。
1. 解決光刻膠附著力不足問題
產(chǎn)品表面的自然氧化層:暴露在空氣中的硅片會形成約 1-2nm 厚的 SiO?層,其表面富含羥基(-OH),具有強親水性。而光刻膠(尤其是化學(xué)增幅型光刻膠)多為疏水性樹脂,直接旋涂時會因表面能不匹配導(dǎo)致 “去濕”(dewetting)現(xiàn)象,形成針孔或島狀缺陷。
HMDS 的改善效果:通過表面硅烷化處理,使硅片表面接觸角從~40° 提升至65°-80°(接近光刻膠的接觸角),確保光刻膠均勻鋪展并形成連續(xù)膜層。實驗表明,使用 HMDS 后,光刻膠的附著力可提高 3-5 倍,在后續(xù)顯影、刻蝕過程中不易脫落
2. 增強光刻圖形的完整性
細(xì)線條工藝中的關(guān)鍵作用:在 28nm 以下工藝節(jié)點,光刻膠線條寬度減小至亞微米級,邊緣應(yīng)力集中效應(yīng)加劇,若無 HMDS 處理,顯影時極易發(fā)生線條坍塌(Line Collapse)。例如,在 193nm 浸沒式光刻中,使用 HMDS 可使 50nm 線寬的抗坍塌能力提升 20%。
深孔 / 溝槽結(jié)構(gòu)的填充優(yōu)化:對于 3D NAND 等具有高深寬比(>20:1)結(jié)構(gòu)的器件,HMDS 可降低光刻膠在孔底的接觸角,避免填充空洞(Void)形成,提高圖形轉(zhuǎn)移質(zhì)量。
實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱的主要功能
HMDS 涂覆:采用蒸汽涂覆(Vapor Prime)將 HMDS 均勻覆蓋在產(chǎn)品表面;
烘烤固化:通常在 100-150°C 下烘烤 60-500 秒,促進化學(xué)反應(yīng).
容積:300×300×300可定制(mm)(2-12寸產(chǎn)品兼容)
材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼制作,內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級不銹鋼
溫度范圍:RT+20-200℃
真空度:≤1torr
自動化:彩色觸摸屏人機交互,一鍵運行
HMDS控制:可控制HMDS 藥液添加量
真空泵:無油渦旋真空泵
HMDS烤箱選配功能:
HMDS藥液泄漏報警提示功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
程序鎖定保護等功能