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KMLabs量子顯微鏡QM

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更新時間：2024-05-11 08:06:14瀏覽次數(shù)：96次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹無損成像將時間分辨研究帶入了納米長度尺度的地形表面成像能力（生物

詳細介紹

產(chǎn)品介紹

無損成像將時間分辨研究帶入了納米長度尺度

的地形表面成像能力（生物，半導體，量子）

一根或多根帶有根據(jù)您的要求配置的終端站的光束線

自組裝材料中納米級有序衍射

用于評估機械和薄膜特性的結構泵探頭，以了解彈性響應，熱傳遞和聲子模式

磁性系統(tǒng)的高分辨率，革命性的測量對不同的磁性層高度敏感

KMLabs QM 量子顯微鏡的光子成像解決方案是一個集成的商業(yè)化平臺，可實現(xiàn)EUV范圍內(nèi)的超快速光譜和納米級的高對比度，近地表到地下成像。它可以對成分和結構進行基于實驗室的2D高對比度成像，研究圖案化薄膜的機械性能，深入了解材料性能，以及自旋電子，ALD，2D，低密度輕質(zhì)，能源，空間和光伏材料的功能表征。

通過將飛秒激光器的時間敏感性與EUV顯微鏡和衍射的空間分辨率相結合，QM使得一系列技術可針對研究和工業(yè)中的重要挑戰(zhàn)進行調(diào)整。例如，對于電池，鋰邊緣附近的EUV吸收提供了微觀和光譜上豐富的區(qū)域，以了解鋰鍵合。對于半導體，QM提供了的對鍵合敏感的掩埋和表面納米形貌的關鍵細節(jié)。QM 量子顯微鏡可配置，包括激光源（EUV和/或VUV），放大器，根據(jù)用戶實驗量身定制的光束線以及可有效覆蓋納米/量子材料的顯微鏡/光譜學領域的成像或其他分析工作站。

產(chǎn)品參數(shù)

集成的高性能超快EUV激光源

高分辨率干涉測量表面和亞表面成像

x/y空間分辨率小于20 nm

具有可配置終端站的多用途束線

泵浦探頭（XUV泵浦/ IR探頭）設計

可擴展至VUV（60-150 nm或8.3至20.7 eV）

關鍵詞：顯微鏡光伏材料電池