一、高純水設(shè)備（EDI）概述                    EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水，以及其它應(yīng)用高純水。
 二、高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理
 
    EDI高純水設(shè)備將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元,EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室,又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極,在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除,而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)。
    EDI高純水設(shè)備技術(shù)介紹：EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水。
三、EDI高純水設(shè)備的特點
 
  　1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無需因樹脂再生而停機；
    2、無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資；
    3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時還具有節(jié)能優(yōu)點；
    4、出廠完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場工作量小，上崗培訓(xùn)容易；
    5、日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動強度低。
    6、脫鹽率大于99.9%，效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。
四、高純水設(shè)備的工藝流程
  
   （1）預(yù)處理→二級反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)
   （2）、預(yù)處理→二級級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)
   （3）、預(yù)處理→二級反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)
   （4）預(yù)處理→一級反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥10MΩ.CM)(工藝)
 
五、高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域
 
   1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。
　2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
　3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
　4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。
　5.海水、苦咸水淡化:海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。
　6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水:星級賓館、機場、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)等。
　7.化工行業(yè)工藝用水:化工冷卻、化肥、化學藥劑制造。
　8.工業(yè)產(chǎn)品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等。
　9.電力行業(yè)鍋爐補給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統(tǒng) 精細化工、精尖學科用水。