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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

PLUTO-MH等離子處理機(jī)/去膠機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱武漢賽斯特精密儀器有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地武漢市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2020/7/22 23:43:49
  • 訪問(wèn)次數(shù)702
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     武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主,同時(shí)銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開(kāi)發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡(jiǎn)捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過(guò)了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國(guó)家計(jì)量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿意單位”的稱號(hào)。
 
    產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、航天、石油化工、紡織制造、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)、研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測(cè)試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長(zhǎng)期合作,每年投入大量研究經(jīng)費(fèi),招攬各方技術(shù)人才加盟突破國(guó)內(nèi)技術(shù)壁壘,不斷攻克新的技術(shù)難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷越南,印度,埃及等國(guó)家和地區(qū)。
 
    本著“專業(yè)品質(zhì),專業(yè)服務(wù)”為宗旨,以“科技、品質(zhì)、競(jìng)爭(zhēng)、創(chuàng)新”為理念,通過(guò)不斷汲取新的技術(shù),新的理念,繼續(xù)開(kāi)發(fā)研制新產(chǎn)品,并為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的售前,售中,售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來(lái)電,蒞臨我公司參觀指導(dǎo)!
檢測(cè)儀器全套,測(cè)試設(shè)備全套等
PLUTO-MH等離子處理機(jī)/去膠機(jī)
PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。針對(duì)用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時(shí),擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學(xué)反應(yīng),粉體等離子體處理等多種能力。
PLUTO-MH等離子處理機(jī)/去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

PLUTO-MH等離子處理機(jī)/去膠機(jī)

PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。我們收集了大量客戶使用信息,分析應(yīng)用需求,將多年設(shè)計(jì)和制造經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于小型化,多功能的等離子體表面處理設(shè)備。無(wú)論是設(shè)計(jì)理念,零配件的選用,都傾注大量精力。針對(duì)用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時(shí),擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學(xué)反應(yīng),粉體等離子體處理等多種能力。

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用,等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)

2. 采用500W功率電源,自動(dòng)阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求,保障高能量密度和高處理效率

3. 高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求

4. 316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)

5. 4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式

6. 可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請(qǐng)咨詢銷售人員)

根據(jù)用戶需求,提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備.

技術(shù)參數(shù):

 PLUTO-MH等離子處理機(jī)/去膠機(jī)

1.配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用

加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

沉積鍍膜模塊,改變表面特性:

沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果

感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置

2.氣體混合裝置

可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)

3.氣體純化和反應(yīng)

氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)

應(yīng)用領(lǐng)域:

處理實(shí)例:玻璃片不同處理?xiàng)l件下接觸角的變化(在實(shí)際操作中,選擇合適的工藝參數(shù)尤為重要)

檢測(cè)設(shè)備:接觸角測(cè)量?jī)x    測(cè)試液體 水液滴體積 1ul

等離子設(shè)備:真空等離子表面處理機(jī)PlutoM

 

 

 

 

 

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