等離子去膠機(jī)
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗機(jī)儀器為主,同時銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國家計量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。