磁控濺射工作原理：

低氣壓下氣體的輝光放電現(xiàn)象（與直流相同），顯著區(qū)別：

1. 靶材后有磁鐵，直流沒(méi)有；

2. 靶材電壓為-600V左右，顯著低于直流；

3. 絕大部分電子和負(fù)離子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下，做螺旋線運(yùn)動(dòng)，單個(gè)電子電離的氣體分子大大多于直流，因此，在較好的真空、較低的電壓下即可獲得較大的電流；

4. 在磁場(chǎng)在作用下，絕大部分電子和部分負(fù)離子落在靶材附近，無(wú)法到達(dá)樣品臺(tái)，對(duì)樣品基本沒(méi)有熱損傷

工作特點(diǎn)：濺射電流與壓力無(wú)關(guān)、基本沒(méi)有熱損傷。

應(yīng)用領(lǐng)域：適用于所有樣品，尤其是溫度敏感性樣品、如生物、聚合物等樣品

                    工作時(shí)真空度好，鍍膜的顆粒度更小，更適用場(chǎng)發(fā)射等高分辨觀測(cè)

                    電極制備。

GVC-2000鍍膜后電鏡效果圖，高分辨圖片中，無(wú)明顯顆粒感，適配高分辨掃描電鏡，充分體現(xiàn)表面細(xì)節(jié)特征

（左）

（右）

上面兩張圖片為鋰電池隔膜樣品的電鏡圖片：

左側(cè)圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測(cè)圖，可以看出，樣品形貌真實(shí)完整；

右側(cè)圖片為其他設(shè)備噴金后的電鏡觀測(cè)圖片，可以看出，熱損傷嚴(yán)重，幾乎無(wú)法識(shí)別為同種樣品。

鍍膜顆粒度：

GVC-2000離子濺射儀

金靶

顆粒尺寸6~10nm

產(chǎn)品特點(diǎn)：

一、安全

1．高壓線多重防護(hù)，外加8×5透明真空管，安全；

2．外殼良好接地；

3．真空互鎖；

4．電流＞50mA，真空度超過(guò)100Pa，系統(tǒng)自動(dòng)切斷濺射；

5．實(shí)體按鍵，安全；

6．濺射頭采用阻尼設(shè)計(jì)，任意位置懸停

二、注重用戶體驗(yàn)

1．5英寸液晶屏，簡(jiǎn)潔明了；

2．最多設(shè)置兩個(gè)參數(shù)，即可開始工作；

3．參數(shù)設(shè)定后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整真空度，無(wú)需人工調(diào)節(jié)針閥，簡(jiǎn)單方便；

4．自動(dòng)放氣；

5．樣品臺(tái)高度1秒調(diào)節(jié)。

三、信息量大

1．濺射過(guò)程中真空度和濺射電流以曲線方式實(shí)時(shí)顯示，簡(jiǎn)單直觀；

2．靶材使用時(shí)間，儀器使用時(shí)間系統(tǒng)自動(dòng)記錄，直觀了解設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài)。

四、快速上手

設(shè)備內(nèi)置操作向?qū)?，在操作人員更換時(shí)，無(wú)需培訓(xùn)，即可快速熟練操作設(shè)備。

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