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4D智能集成等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-IP-XXHD-DXX

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市誠峰智造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CRF-APO-IP
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2022/8/15 15:22:45
  • 訪問次數(shù)298
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深圳市誠峰智造有限公司(phone:13632675935  http://www.sfi-crf.com)是一家專業(yè)致力于提供等離子設備及工藝流程解決方案的*。中國香港、中國臺灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設立八大銷售及客戶中心,銷售及客戶網(wǎng)絡遍布,擁有國內(nèi)外銷售及客服團隊。源于美國&德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術,公司全資擁有CRF品牌下等離子設備的研發(fā),生產(chǎn),制造技術,設備范圍涵蓋半導體,光伏光電,太陽能,PCB&FPCB等行業(yè)。

等離子清洗機,等離子表面處理機,電漿機,plasma設備,等離子設備
產(chǎn)品概述單個處理系統(tǒng)可攜帶2-4個各種類型等離子噴槍,全網(wǎng)絡匹配、智能集成一體化;具有更節(jié)省空間、更多種類型的應用;具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境
4D智能集成等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-IP-XXHD-DXX 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品概述
單個處理系統(tǒng)可攜帶2-4個各種類型等離子噴槍,全網(wǎng)絡匹配、智能集成一體化;
具有更節(jié)省空間、更多種類型的應用;
具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;
使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境。
 
產(chǎn)品特點
可In-Line式安裝于客戶設備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低。
 
應用范圍
主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
 
除氣體分子、離子和電子外,智能集成等離子處理系統(tǒng)等離子體中也有受能量激起的電中性原子或原子團(也稱之為自由基),以及由等離子體傳出的光。其光波長短,能使紫外線在等離子體與化學物質(zhì)表層相互影響中起著關鍵功效。下列各自詳細介紹它們的功效。

原子團等氧自由基在物件表層產(chǎn)生功效:
由于這些自由基全是中性電荷平衡的,存在時間長,而且在等離子體中比離子多,因此自由基在等離子體中起著關鍵作用。智能集成等離子處理系統(tǒng)在化學反應過程中,自由基的作用具體表現(xiàn)用能量傳送的“活化”功效,在激發(fā)情況下,自由基的能量較高,因而非常容易與物件表層的分子結合,造成新的氧自由基,新產(chǎn)生的自由基也處在不穩(wěn)定的高能量情況下,有可能產(chǎn)生分解反應,在變?yōu)樾》肿油瑫r另外造成新的自由基,這一過程還很有可能再次發(fā)生,將其溶解為水、二氧化碳等簡易分子,在其他的狀況下,自由基與物件表層分子結合時,還會繼續(xù)造成很多的結合能,這一能量也是引起新的表面反應的驅(qū)動力,從而引起物件表層的化學物質(zhì)產(chǎn)生化學反應而被消除。

電子與物體表層:
物體表層的撞擊,一方面促進吸咐在表層的氣體分子分解或吸咐,另一方面很多的電子撞擊則有益于引起化學反應。由于電子質(zhì)量十分小,因此比離子挪動得迅速。等離子體處理時,電子會比離子較早地抵達物體的表層,進而使物體表層含有負電荷,進而有益于引起進一步的反應。
 
離子與物體表面的作用:
一般所說的是帶正電荷的陽離子的作用,它們會加快奔向帶負電荷的表層,在這個時候,物體表層會得到非常大的動能,足夠撞擊表層粘附的顆粒物性物質(zhì),大家稱作濺射現(xiàn)象。另外,因為離子的沖擊能夠進一步提高物體表層產(chǎn)生化學反應的概率。
 
紫外線對物體表面的反應:
紫外線具備較強的光能,能使粘附在物體表面的物質(zhì)的分子鍵破裂而分解,而且紫外線有較強的透過能力,能越過物體的表層,并能越過數(shù)微米深處產(chǎn)生作用。
 
總而言之,智能集成等離子處理系統(tǒng)等離子清洗機是運用等離子體中各種各樣較高能物質(zhì)的活性功效,將吸咐在物件表層的污漬*脫離和去除。廣泛運用于包裝、橡塑制品、通信、汽車、家用電器、光學、紡織品、半導體材料及精密機械制造等領域。
未找到相應參數(shù)組,請于后臺屬性模板中添加

 

名稱(Name)

4D智能集成等離子處理系統(tǒng)

型號(Model)

CRF-APO-IP-XXHD-DXX

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

800W*4set/25KHz

功率因素(Power factor)

0.98

等離子噴槍數(shù)量(Number of plasma   guns)

4(Max)

處理高度(Processing   height)

5-15mm

內(nèi)部控制模式(Internal control   mode)

數(shù)字控制(Digital control)

外部控制模式(External control   mode)

RS485/RS232、模擬通訊口、啟停IO(RS485/RS232、Analog communication port、ON/OFF I/O)

工作氣體(Gas)

Compressed Air(0.4mpa)/N2(0.2mpa)

 

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